- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/40 - Aspects liés à la décharge électrostatique [ESD Electrostatic Discharge], p.ex. revêtements antistatiques ou présence d'une couche métallique conductrice sur la périphérie du substrat du masque
Détention brevets de la classe G03F 1/40
Brevets de cette classe: 54
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
9 |
Hoya Corporation | 2822 |
6 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
4 |
Agc, Inc. | 4029 |
3 |
Samsung Display Co., Ltd. | 30585 |
2 |
Yangtze Memory Technologies Co., Ltd. | 1940 |
2 |
TCL China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 2368 |
2 |
Kioxia Corporation | 9847 |
2 |
Intel Corporation | 45621 |
1 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
1 |
Renesas Electronics Corporation | 6305 |
1 |
Applied Materials Israel, Ltd. | 549 |
1 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
1 |
LG Innotek Co., Ltd. | 6758 |
1 |
Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 3891 |
1 |
Wistron Corporation | 2270 |
1 |
Mitsubishi Chemical Corporation | 4313 |
1 |
Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG | 12 |
1 |
Beijing BOE Display Technology Co., Ltd. | 2497 |
1 |
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 3779 |
1 |
Autres propriétaires | 12 |